第192章 团队攻14nmFinFET(2/2)
三天后，首批20片工程样片完成，被送入测试实验室。
探针台下，数据开始跳动。
「漏电流达标！」「驱动电流超预期！」「芯粒互联成功率98.7%！」「CPU单核性能达到2.8GHz！」……
一项项捷报传来，当最终的良率数据定格在「51%」时，实验室沸腾了！
「51%！我们做到了！」陈默激动地跳起来，和同事们拥抱。
梁志远眼眶湿润，用微微颤抖的手拍下测试屏幕，发给了章宸和陈醒。
视频那头的章宸，疲惫的脸上露出了久违的丶发自内心的笑容：
「太好了！51%！我们跨过了技术验证的门槛！下一步，良率爬坡，冲击60%的量产线！」
然而，喜悦的泡沫很快被新的测试结果刺破。
在进行高温老化测试时，部分样片在125℃极限温度下，出现了电晶体阈值电压漂移，导致性能衰减超过8%。
「是热载流子注入效应。」
梁志远眉头紧锁，
「14nm节点的栅氧层太薄了，高温下电子更容易穿透，造成性能不可逆的衰退。」
问题比想像中更顽固。章宸立刻组织跨团队线上会议。
「必须在栅极结构上做文章，」
他提出方案，
「采用金属栅极+高K介质层的堆叠结构，中间增加一层氮化钛作为阻挡层。同时，优化离子注入工艺，从源头上减少热载流子产生。」
「材料这边，」
徐文渊教授通过视频接入，
「我们同步在测试氧化铪基的高K栅氧材料，介电常数更高，能在同等厚度下提供更好的绝缘性能，样品一周内可以提供。」
没有丝毫停歇，新一轮优化迅速启动。
设计团队修改光罩图形，工艺团队调整上百个参数，材料团队同步推进。又是五天五夜不眠不休的奋战，第二批次工程流片启动。
当最终的测试报告出来时，所有人都长舒一口气：
高温阈值电压漂移控制在3%以内，性能衰减不足2%，完全满足商用标准。而最关键的良率数据，赫然达到了62%！
「62%！良率达标了！」
研发中心爆发出震耳欲聋的欢呼，掌声经久不息。
梁志远靠在椅背上，闭上眼，疲惫的脸上终于露出了彻底放松的笑容。他立刻向陈醒报捷。
陈醒正在EUV实验室关注光源进展，接到电话，他停下脚步，眼中闪过难以抑制的亮色，紧绷的面容柔和下来：
「好！梁工，章博士，还有整个团队，你们立了大功！这不仅是未来科技的突破，更是华夏半导体产业一个里程碑式的进展！」
就在这时，实验室的门被猛地推开，赵静拿着平板电脑急匆匆走进来，脸上带着前所未有的凝重。
「陈总，梁工，皮衣科技的P200 GPU开始全球大规模铺货了！亚逊云丶微创云都宣布将其作为下一代AI训练的主力晶片，他们的批量采购价，比我们的『悟道1号』……低了15%以上！」
她顿了顿，声音沉重，
「我们接触的几家国内网际网路巨头，态度开始摇摆，都在询问我们下一代『悟道』晶片的进度和价格。」
欢呼声戛然而止。
梁志远脸上的笑容瞬间冻结。他看着屏幕上那来之不易的62%良率数据，心中五味杂陈。
他们刚刚在制造端艰难地推开了一扇门，却发现市场端的暴风雨已经扑面而来。
陈醒的声音通过电话传来，恢复了惯有的冷静与决断：
「梁工，你们团队的成就非凡！现在，立刻将工作重心转向良率稳定和爬坡，目标是尽快稳定在70%以上，为『天权5号』的流片做好万全准备！」
他话锋一转，语气变得锐利：
「至于皮衣科技的价格战和市场攻势……赵静，通知管理层，半小时后紧急会议！我们不能等到『悟道2号』了，必须立刻回应！『悟道晶片战皮衣科技』的第一枪，我们不能退，也退不起！」
电话挂断，梁志远看着身边从狂喜跌回现实的团队成员，深吸一口气，声音坚定如铁：
「同志们！都听到了吗？我们在这里每提升一个百分点的良率，就是在为前线的兄弟多造一发子弹！接下来的目标，良率稳定至75%，同时，全力配合章博士团队，完成『天权5号』的最终设计！我们在这里多流一滴汗，前线的战友就能少流一滴血！」
「是！」
整齐的回应，带着破釜沉舟的勇气。
华夏芯谷的夜色依旧深沉，但14nm研发中心的灯光，却比以往任何时候都更加灼热丶坚定。
他们刚刚赢得了一场艰苦的攻坚战，但所有人都明白，一场更加残酷丶关乎生死存亡的市场决战，已经随着皮衣科技的阴影，笼罩而来。